Parameter:

1. Resistivity: 15-18.25MΩ.cm;

2. Heavy metal ions: <0.1ppb; Microparticles: ≤ 1 pc/ ml;

3. Microorganism: <1CFU / ml; Total Organic Carbon (TOC): <5 ppb;  

4. Soluble silicon (in sio2 dollars) <0.01mg / L;

5. US Dow UPW-450 ultra-pure water for polishing resin or Rohm and Haas 6150;

6. Exchange capacity tons of water = resin capacity (the premise of water 10μs / cm below).

Specification:

Theory:

Storage: